蒸(zheng)發(fa)真空(kong)鍍膜機工作時(shi)真空(kong)材料蒸(zheng)發(fa)出(chu)來的原子或分子不要受空(kong)氣分子的阻擋(dang)而直接濺落到(dao)固(gu)體的表面，這樣，鍍膜層(ceng)形成(cheng)的速度高，膜層(ceng)結合力強，成(cheng)膜質量也好。

反之，如(ru)果真(zhen)空(kong)度(du)低，有(you)大(da)量(liang)的(de)空(kong)氣(qi)分子存在，一(yi)方(fang)面，蒸(zheng)(zheng)發(fa)真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)機(ji)蒸(zheng)(zheng)發(fa)出來的(de)原子或分子與(yu)空(kong)氣(qi)分子碰撞，阻礙了膜(mo)(mo)(mo)(mo)材(cai)分子的(de)擴散，降低了膜(mo)(mo)(mo)(mo)層形(xing)成(cheng)的(de)速度(du)，影響了膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)均勻性與(yu)結合力；另(ling)一(yi)方(fang)面，空(kong)氣(qi)的(de)導熱(re)使(shi)得膜(mo)(mo)(mo)(mo)材(cai)的(de)溫(wen)度(du)不(bu)能(neng)很快(kuai)地升高，必然要加(jia)大(da)加(jia)熱(re)功率(lv)；更有(you)甚者，空(kong)氣(qi)的(de)存在可能(neng)使(shi)膜(mo)(mo)(mo)(mo)材(cai)的(de)某些成(cheng)分氧化，引(yin)起成(cheng)分變性；在連接著抽氣(qi)機(ji)的(de)情(qing)況下，若不(bu)能(neng)很快(kuai)完(wan)成(cheng)鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)，膜(mo)(mo)(mo)(mo)料將被抽走。

因此，真空鍍膜機需要在高真空條件下進行工作；當然，真空度也不需要絕對的高。事實上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距離即可。如果需要確保真空鍍膜產品厚度的均勻性，可使用真空鍍膜光密度在線測試儀來連續監控鍍膜品質。

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