現在(zai)市面上好的太陽膜其制作方法多半為以下兩種：一種是真空蒸發(fa)鍍(du)膜法。一種是磁(ci)控濺射(she)法。

1、真空(kong)(kong)(kong)蒸(zheng)發(fa)鍍膜(mo)(mo)(mo)法就是在真空(kong)(kong)(kong)中以(yi)電(dian)阻加熱鍍膜(mo)(mo)(mo)材料(liao)(liao)，使它在極(ji)短的(de)時(shi)間內(nei)蒸(zheng)發(fa)，蒸(zheng)發(fa)了的(de)鍍膜(mo)(mo)(mo)材料(liao)(liao)分子沉積在基材表面(mian)上形成(cheng)鍍膜(mo)(mo)(mo)層。真空(kong)(kong)(kong)鍍膜(mo)(mo)(mo)室是使鍍膜(mo)(mo)(mo)材料(liao)(liao)蒸(zheng)發(fa)的(de)蒸(zheng)發(fa)源(yuan)，還有支承基材的(de)工作架或卷繞裝置都(dou)是真空(kong)(kong)(kong)蒸(zheng)發(fa)鍍膜(mo)(mo)(mo)設備的(de)主(zhu)要部分。鍍膜(mo)(mo)(mo)室的(de)真空(kong)(kong)(kong)度，鍍膜(mo)(mo)(mo)材料(liao)(liao)的(de)蒸(zheng)發(fa)熟練地(di)，蒸(zheng)發(fa)距離和蒸(zheng)發(fa)源(yuan)的(de)間距，以(yi)及基材表面(mian)狀態和溫度都(dou)是影響鍍膜(mo)(mo)(mo)質量的(de)因(yin)素。

2、磁(ci)控(kong)濺射法是指(zhi)電(dian)(dian)子(zi)在電(dian)(dian)場(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)下(xia)(xia)(xia)加速(su)飛向(xiang)基片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)過程(cheng)中(zhong)與氬(ya)原(yuan)(yuan)子(zi)發(fa)生碰(peng)(peng)撞，電(dian)(dian)離(li)(li)出大量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)氬(ya)離(li)(li)子(zi)和電(dian)(dian)子(zi)，電(dian)(dian)子(zi)飛向(xiang)基片(pian)(pian)。氬(ya)離(li)(li)子(zi)在電(dian)(dian)場(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)下(xia)(xia)(xia)加速(su)轟擊靶(ba)(ba)材，濺射出大量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材原(yuan)(yuan)子(zi)，呈(cheng)中(zhong)性的(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)原(yuan)(yuan)子(zi)（或分子(zi)）沉(chen)(chen)積(ji)(ji)在基片(pian)(pian)上(shang)成膜。二次(ci)電(dian)(dian)子(zi)在加速(su)飛向(xiang)基片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)過程(cheng)中(zhong)受到(dao)磁(ci)場(chang)洛侖磁(ci)力的(de)(de)(de)(de)(de)影響，被束(shu)縛在靠近靶(ba)(ba)面的(de)(de)(de)(de)(de)等(deng)離(li)(li)子(zi)體區域內，該(gai)區域內等(deng)離(li)(li)子(zi)體密度很高，二次(ci)電(dian)(dian)子(zi)在磁(ci)場(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)下(xia)(xia)(xia)圍繞靶(ba)(ba)面作(zuo)圓周運動(dong)(dong)，該(gai)電(dian)(dian)子(zi)的(de)(de)(de)(de)(de)運動(dong)(dong)路徑很長，在運動(dong)(dong)過程(cheng)中(zhong)不斷(duan)的(de)(de)(de)(de)(de)與氬(ya)原(yuan)(yuan)子(zi)發(fa)生碰(peng)(peng)撞電(dian)(dian)離(li)(li)出大量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)氬(ya)離(li)(li)子(zi)轟擊靶(ba)(ba)材，經過多(duo)次(ci)碰(peng)(peng)撞后電(dian)(dian)子(zi)的(de)(de)(de)(de)(de)能量(liang)逐漸降低(di)，擺脫磁(ci)力線的(de)(de)(de)(de)(de)束(shu)縛，遠離(li)(li)靶(ba)(ba)材，最終沉(chen)(chen)積(ji)(ji)在基片(pian)(pian)上(shang)。

3、磁控濺射法(fa)與蒸(zheng)(zheng)(zheng)發法(fa)相比，具有(you)鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)與基材(cai)層(ceng)(ceng)的結合(he)力(li)強，鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)致密，均(jun)勻等(deng)優點(dian)。真(zhen)空(kong)蒸(zheng)(zheng)(zheng)發鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)法(fa)需要(yao)使金(jin)屬(shu)(shu)或(huo)金(jin)屬(shu)(shu)化(hua)合(he)物蒸(zheng)(zheng)(zheng)發氣化(hua)，而(er)加(jia)熱溫度又不能太高(gao)(gao)，否則氣相蒸(zheng)(zheng)(zheng)鍍(du)(du)(du)金(jin)屬(shu)(shu)會(hui)燒壞被塑料(liao)基材(cai)，因此，真(zhen)空(kong)蒸(zheng)(zheng)(zheng)鍍(du)(du)(du)法(fa)一(yi)般(ban)僅適用于鋁(lv)等(deng)熔點(dian)較低的金(jin)屬(shu)(shu)源(yuan)，是目前應用較為廣泛的真(zhen)空(kong)鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)工(gong)藝。相反，噴濺鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)法(fa)利用高(gao)(gao)壓電場激發產生等(deng)離子體鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)物質，適用于幾乎所有(you)高(gao)(gao)熔點(dian)金(jin)屬(shu)(shu)，合(he)金(jin)、非金(jin)屬(shu)(shu)及金(jin)屬(shu)(shu)化(hua)合(he)物鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)源(yuan)物質，如鉻，鉬(mu)，鎢，鈦，銀，金(jin)等(deng)。而(er)且它是一(yi)種強制(zhi)性的沉積過程，采用該(gai)法(fa)獲(huo)得的鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)與基材(cai)附著力(li)遠高(gao)(gao)于真(zhen)空(kong)蒸(zheng)(zheng)(zheng)發鍍(du)(du)(du)法(fa)，鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)具有(you)致密，均(jun)勻等(deng)優點(dian)，加(jia)工(gong)成本也相對較高(gao)(gao)。

目前擁有磁控濺射技術的太陽膜生產廠家有：美國韶華科技公司（Southwall）、美國貝卡爾特公司(Bekaert)、美國CPFilms公司。利用磁控濺射技術所生產的太陽膜具有膜層致密、均勻，有良好的透光性和優良的光譜選擇性能，深圳市林上科技生產的磁控濺射鍍膜在線測厚儀能(neng)為(wei)真空鍍膜磁控濺射技術提供(gong)鍍膜生產(chan)在線檢測，保證太陽膜產(chan)品的高(gao)品質，使其能(neng)夠為(wei)車主帶來舒適、安全(quan)的行車環(huan)境(jing)。