真空鍍膜實質上是在高真空狀態下利用物理方法在鍍件的表面上鍍上一層薄膜的技術，它是一種物理現象。是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝；真空鍍膜按其方式不同可分為真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和現代發展起來的離子鍍膜。真空鍍膜在生產過程中鍍膜厚度的均勻性能反應出鍍膜產品品質，真空鍍膜在線檢測如今市場上已有專業的檢測儀器---光密度在線檢測儀。
一(yi)(yi)些光(guang)學零件的(de)(de)光(guang)學表面需(xu)要用(yong)物理方(fang)法(fa)或化學方(fang)法(fa)鍍上一(yi)(yi)層(ceng)(ceng)或多(duo)層(ceng)(ceng)薄膜，使(shi)得光(guang)線經過該表面的(de)(de)反(fan)射(she)光(guang)特性(xing)或透射(she)性(xing)特性(xing)發生變化，許多(duo)機械加工(gong)(gong)所采用(yong)的(de)(de)刀具表面也(ye)需(xu)要沉(chen)積一(yi)(yi)層(ceng)(ceng)致密的(de)(de)、結合牢固的(de)(de)超硬鍍層(ceng)(ceng)而使(shi)其得以(yi)硬化，延長其使(shi)用(yong)壽命，提高切(qie)削效率，從而改善被(bei)加工(gong)(gong)部件的(de)(de)精(jing)度和光(guang)潔度。目前，作為物理鍍膜方(fang)法(fa)的(de)(de)真空鍍膜，尤(you)其是(shi)納米級超薄膜制作技(ji)術(shu)，已廣泛地應用(yong)在(zai)電(dian)真空、無線電(dian)、光(guang)學、原(yuan)子學、空間(jian)技(ji)術(shu)等領域(yu)及我們的(de)(de)生活中。

真空鍍膜其中有一種光密度法，光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征；它用透光鏡測量。光密度沒有量綱單位，是一個對數值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。光密度和透光率成一定的反比關系，可以用公式來表示：OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。即光密度是入射光與透射光比值的對數或者說是光線透過率倒數的對數。
通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過率為10%－0.1%），數值越大鍍鋁層越厚，美國國家標準局的ANSI/NAPM IT2.19對試驗條件做了詳細規定。
OD是(shi)optical density（光(guang)密度）的(de)縮寫，表示被(bei)檢(jian)測(ce)物吸(xi)(xi)收(shou)(shou)掉的(de)光(guang)密度，是(shi)檢(jian)測(ce)方法里出現(xian)的(de)專(zhuan)有名(ming)詞。一般人理解(jie)較困難(nan)，具體檢(jian)測(ce)涉及(ji)到很多物理等方面知(zhi)識。你(ni)只須知(zhi)道(dao)是(shi)陰性即(ji)可(ke)光(guang)通過(guo)被(bei)檢(jian)測(ce)物，前(qian)后的(de)能(neng)量(liang)(liang)(liang)差異即(ji)是(shi)被(bei)檢(jian)測(ce)物吸(xi)(xi)收(shou)(shou)掉的(de)能(neng)量(liang)(liang)(liang)，特定波(bo)長下，同一種被(bei)檢(jian)測(ce)物的(de)濃度與被(bei)吸(xi)(xi)收(shou)(shou)的(de)能(neng)量(liang)(liang)(liang)成(cheng)定量(liang)(liang)(liang)關系。檢(jian)測(ce)單位用OD值(zhi)(zhi)表示，OD=1og（1/trans），其中(zhong)trans為檢(jian)測(ce)物的(de)透光(guang)率值(zhi)(zhi)。