光刻曝光技術利用紫外線原理對工業生產中一些物質的雜質的定域擴散進行加工。對于現在的光刻曝光技術來說極紫外線（EUV）快要適用了，那么設想接下來新一代的光刻會采用什么技術呢？是會有更短的波長？怎樣監控其中的紫外線強度確保不會影響生產呢?

光(guang)(guang)刻(ke)曝(pu)光(guang)(guang)需要利用(yong)紫(zi)外線(xian)(xian)強(qiang)度(du)(du)檢測儀進行(xing)紫(zi)外線(xian)(xian)強(qiang)度(du)(du)監控。就(jiu)目前發展前景來(lai)(lai)看。下一代的(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)技術很有(you)(you)可能為電子束曝(pu)光(guang)(guang)，極限(xian)分辨率(lv)能達到(dao)2、3nm。在光(guang)(guang)學光(guang)(guang)刻(ke)曝(pu)光(guang)(guang)系(xi)統中，曝(pu)光(guang)(guang)輻射的(de)(de)波(bo)長是光(guang)(guang)刻(ke)工(gong)藝(yi)的(de)(de)關鍵參數(shu)。波(bo)長直接影響紫(zi)外線(xian)(xian)的(de)(de)能量強(qiang)度(du)(du)。也就(jiu)是說(shuo)需要達到(dao)良好的(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)工(gong)藝(yi)，必須要有(you)(you)來(lai)(lai)對紫(zi)外線(xian)(xian)能量強(qiang)度(du)(du)進行(xing)參照。

傳(chuan)統光(guang)(guang)刻(ke)(ke)曝光(guang)(guang)系統使用(yong)(yong)紫外光(guang)(guang)，會(hui)有(you)干涉和衍射現象影(ying)響分辨(bian)(bian)(bian)率。雖如(ru)此(ci)，但(dan)還有(you)繼續發展下去的(de)(de)趨勢。其(qi)(qi)中要(yao)想(xiang)減少被市場上(shang)其(qi)(qi)他競(jing)爭產(chan)(chan)品(pin)的(de)(de)淘汰，首先在生產(chan)(chan)中就要(yao)注意利(li)(li)用(yong)(yong)紫外線(xian)強(qiang)度(du)(du)檢測儀使光(guang)(guang)刻(ke)(ke)曝光(guang)(guang)過程中保(bao)持(chi)良好的(de)(de)紫外照(zhao)射強(qiang)度(du)(du)，才能生產(chan)(chan)出有(you)競(jing)爭力的(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)。目前(qian)的(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)曝光(guang)(guang)技術有(you)極深(shen)紫外光(guang)(guang)系統，但(dan)其(qi)(qi)系統復雜，最終也難以規(gui)避由于干涉衍射帶來的(de)(de)分辨(bian)(bian)(bian)率限制。因此(ci)必須(xu)利(li)(li)用(yong)(yong)紫外線(xian)強(qiang)度(du)(du)檢測儀防止(zhi)紫外光(guang)(guang)的(de)(de)強(qiang)度(du)(du)過高對分辨(bian)(bian)(bian)率造成很大(da)影(ying)響。

為什么光(guang)(guang)(guang)刻(ke)曝光(guang)(guang)(guang)技(ji)(ji)術(shu)會不(bu)(bu)斷(duan)發展(zhan)和(he)(he)越來(lai)越受歡迎呢？主(zhu)要(yao)是因為傳統(tong)系(xi)統(tong)中的(de)(de)(de)(de)缺陷不(bu)(bu)適應現代市(shi)場的(de)(de)(de)(de)發展(zhan)需求。非(fei)光(guang)(guang)(guang)學光(guang)(guang)(guang)刻(ke)曝光(guang)(guang)(guang)系(xi)統(tong)有(you)(you)以下幾種。X射(she)線(xian)(xian)(xian)曝光(guang)(guang)(guang)系(xi)統(tong)：就商用X射(she)線(xian)(xian)(xian)曝光(guang)(guang)(guang)設備來(lai)看(kan)，可以容(rong)忍的(de)(de)(de)(de)缺陷是圖形畸變，但更嚴重的(de)(de)(de)(de)限制(zhi)是半影模(mo)糊。離(li)子(zi)束曝光(guang)(guang)(guang)系(xi)統(tong)：存在隨機空間電(dian)(dian)荷問題，好(hao)處(chu)是不(bu)(bu)需要(yao)掩模(mo)。電(dian)(dian)子(zi)束曝光(guang)(guang)(guang)系(xi)統(tong)：存在電(dian)(dian)子(zi)的(de)(de)(de)(de)散(san)射(she)問題，好(hao)處(chu)是不(bu)(bu)需要(yao)掩模(mo)。X射(she)線(xian)(xian)(xian)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)的(de)(de)(de)(de)分(fen)辨率沒有(you)(you)那么高。X射(she)線(xian)(xian)(xian)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)和(he)(he)紫(zi)(zi)外(wai)(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)的(de)(de)(de)(de)原(yuan)理不(bu)(bu)同。X射(she)線(xian)(xian)(xian)不(bu)(bu)能(neng)(neng)被(bei)折射(she)，也沒有(you)(you)好(hao)的(de)(de)(de)(de)反(fan)射(she)材料(liao)，所(suo)(suo)以無法被(bei)聚(ju)焦。而且X射(she)線(xian)(xian)(xian)的(de)(de)(de)(de)能(neng)(neng)量太高，會產(chan)生(sheng)二次電(dian)(dian)子(zi)，這(zhe)個(ge)限制(zhi)了最小分(fen)辨率。所(suo)(suo)以就目前(qian)來(lai)說，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)曝光(guang)(guang)(guang)技(ji)(ji)術(shu)的(de)(de)(de)(de)發展(zhan)仍有(you)(you)不(bu)(bu)斷(duan)上升的(de)(de)(de)(de)區間，且這(zhe)個(ge)過(guo)程(cheng)(cheng)離(li)不(bu)(bu)開紫(zi)(zi)外(wai)(wai)線(xian)(xian)(xian)強度檢(jian)測(ce)儀的(de)(de)(de)(de)不(bu)(bu)斷(duan)檢(jian)測(ce)，確(que)保(bao)紫(zi)(zi)外(wai)(wai)線(xian)(xian)(xian)能(neng)(neng)量的(de)(de)(de)(de)正常控(kong)制(zhi)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)過(guo)程(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)(de)正常進(jin)行和(he)(he)產(chan)品質(zhi)量的(de)(de)(de)(de)最終保(bao)證(zheng)。

光(guang)刻曝光(guang)技術的(de)良好發展需要(yao)精(jing)確度(du)高的(de)紫外線(xian)(xian)強(qiang)度(du)檢測(ce)儀(yi)與(yu)之(zhi)相(xiang)配(pei)合。林上(shang)的(de)LS126C紫外線(xian)(xian)強(qiang)度(du)檢測(ce)儀(yi)檢測(ce)功(gong)能多(duo)樣，可(ke)以顯示多(duo)種(zhong)數(shu)據(ju)，還可(ke)以顯示強(qiang)度(du)的(de)變化趨勢(shi)，在功(gong)能應用(yong)和數(shu)據(ju)精(jing)確上(shang)都達到了行業標(biao)準的(de)前列。在發展過程中不斷與(yu)時俱進，更加(jia)貼合了顧客的(de)要(yao)求。未來的(de)光(guang)刻曝光(guang)技術發展會與(yu)紫外線(xian)(xian)強(qiang)度(du)檢測(ce)儀(yi)相(xiang)輔相(xiang)成，互相(xiang)促進。